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IWC Wafer Cleaning Equipment

RCA洗浄に代わり、3~12インチウエハに対応し、IWC生成装置と組み合わせることで、化学廃液ゼロエミッションのグリーン洗浄を実現します。

  • IWC洗浄装置仕様:枚葉式/槽式

  • 加工対象サイズ:3/4/6/8/12インチ

  • 洗浄液対応:IWC(装置内蔵生成設備)/各種薬液/純水など

  • IWC生成装置、標準生成量:15 L/hr(仕様変更可能)

装置構成

  • 上下ノズル

    純水、エアー、IWC

  • 超音波

    流水超音波 :2個,1 MHz/400kHz

    振動体超音波:1MHz

仕様パラメータ

仕様枚葉式槽式
型式LC-200/300-SWLC-5C1D-B
装置寸法1400W x 1400D x 2050H5800W x 1000D x 2000H
ユーティリティ純水:入口0.2MPa以上、5L/min以上、出口C-PVC15A
排液:PVC-25A
排気:φ100吸引必要
電源: 三相AC200V60A
ドライエア: 0.5MPa以上、8A
純水:入口0.2MPa以上、5L/min以上、出口C-PVC15A
排液:PVC-25A
排気:φ200吸引必要
電源:三相AC200V 60A
ドライIア:φ12
処理能力4分/枚~冷却水:15A

内容選択

仕様枚葉式槽式
ウエハサイズ3/4/6/8/12インチ(事前に1種または複数を選択)
洗净方式スポット超音波洗浄/ライン式超音波ブラシ洗净/二流体洗浄超音波/浸漬
洗净液IWC/DIW etc.IWC / DIW / IPA etc.
チャック方式エッジグリップチャック真空チャック

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